021-57632846
某光刻胶企业研发实验室，因光刻工艺对生产环境的温度、湿度波动极为敏感——当温度波动超过±0.5℃或湿度偏离±3%RH时，光刻胶的收缩膨胀会导致芯片线路偏移，直接引发良率下降15%-30%——亟需建设一套高精度恒温恒湿洁净室。
挑战
1. 精度要求极高：光刻区需满足ISO 3-5级洁净度，温度控制精度需达±0.1℃，湿度精度±1%RH；
2. 全区域均匀性：需消除垂直温度梯度，确保工作区内任意测点均达标；
3. 兼顾节能：高精度控制往往伴随高能耗，需在精度与运营成本之间取得平衡。
碧环为该项目定制了以下技术路径：
· 精密控制策略：采用“二次回风+电加热+电极加湿”组合方案，实现温湿度的精细化调节；
· 智能自控系统：搭载SIEMENS自控系统，构建“感知-决策-执行”闭环管理；
· 变频节能技术：送风系统采用变频风机，根据室内负荷自动调整送风量，兼顾精度与节能；
· 多点位监测：设置多点温湿度传感器，消除垂直温度梯度，确保全区域环境一致性；
· 全流程品控：严格执行从前期勘测→方案设计→设备选型→施工安装→检测调试→验收交付的全链条管理。
成果数据
指标 设计要求 实际达成
温度波动 ≤±0.2℃ ≤±0.15℃
湿度波动 ≤±1.5%RH ≤±1.2%RH
项目竣工后经第三方独立检测，依据《洁净室施工及验收规范》GB50591及ISO14644标准，全部测点数据达标，部分指标优于设计值。
客户评价：“碧环将闭环管理经验贯彻到每一个控制环节，给予了远超预期的环境保障。
