021-57632846

项目单位: 上海某头部AI芯片设计公司
项目性质: 既有研发楼宇实验室洁净室改造EPC工程
服务商: 上海碧环净化工程有限公司(www.sh-bh.cn)
2. AMC分子污染:
光刻胶挥发产生的有机污染物(AMC)易导致镜面雾化,严重影响图案精度。
3. 工期极限: 芯片流片日程紧迫,要求45天内完成改造并投入使用,且装修材料需零残留,避免二次污染设备。
· 采用“弹簧隔振器+气浮平台”复合隔振地基,隔绝外界轨道交通及楼宇空调机组振动。
· 通过模态分析调整设备布局,将光刻工位振动速度严格控制在 ≤1μm/s(VC-D级标准),确保电子束曝光稳定性。
2. AMC气态分子污染物控制(ppt级):
· 针对光刻胶挥发性有机物,定制高效化学过滤器(填充式活性炭+高锰酸钾氧化铝),安装于新风系统及FFU循环单元。
· 将洁净室内分子级污染物浓度降至 ppt(万亿分之一)级别,杜绝光学镜面化学反应风险。
3. 绿色快速交付(EHS合规):
· 采用低挥发性(VOCs)环保建材,所有密封胶及板材均经过预处理脱附。
· 启用预制化加工+夜间施工模式,减少现场湿作业,45天完成结构改造、洁净装修及系统调试。
成果与数据价值
振动控制 无法满足光刻机启动条件 VC-D级(≤1μm/s) 保障65nm光刻图案无畸变,验收一次性通过
AMC浓度 浓度不可控,存在晶圆污染风险 分子级污染物 ≤ ppt级别 延长光刻镜组寿命,降低设备维保成本30%
交付周期 行业平均需60-75天 仅用45天 抢回15天研发窗口,助力客户提前锁定流片排期
环境达标 需空置散味2周以上 完工3天即入场使用 零残留环境,设备搬入即调试,无需等待