上海碧环净化工程有限公司 洁净环境 提升价值

在半导体制造这个以纳米为尺度的精密世界，每一次技术突破都如攀登珠峰般艰难。中微半导体设备（上海）股份有限公司（AMEC）近期宣布实现亚埃级（0.1nm级）刻蚀精度，并将边缘刻蚀良品率历史性提升至99.7%，这一成果不仅是中国半导体装备领域的重大突破，更在全球产业界引发强烈震动。而支撑这一巅峰表现的幕后英雄，正是其堪称极致的无尘车间品质保证体系。

 

原子级操控：0.1nm精度的登顶之路

 

0.1纳米，约等于一个氢原子的直径。达到这一精度，意味着中微公司在刻蚀设备上实现了近乎原子级别的材料去除控制能力。这种“亚埃级精度”对于3纳米及以下更先进逻辑芯片、高带宽存储（HBS）等尖端器件的制造至关重要。芯片结构日趋复杂，尺寸持续微缩，任何微小的刻蚀偏差都可能导致器件性能失效或可靠性崩溃。中微公司凭借其创新的等离子体控制技术、精准的能量与角度调控，以及对化学反应动力学的深刻理解，将刻蚀精度推向了物理极限，为下一代芯片的量产扫清了关键障碍。

 

99.7%良率：边缘刻蚀的极致追求

 

芯片制造中，晶圆边缘区域的工艺控制尤为困难，却是影响整体良率的关键点。传统工艺下，边缘效应常导致刻蚀不均、残留或过度损伤。中微公司将边缘刻蚀良品率提升至惊人的99.7%，这不仅是一个数字，更是其技术实力与工艺稳定性的完美证明。这背后是复杂的电场与气流优化设计，针对边缘区域的特殊工艺配方开发，以及实时的、高灵敏度的终点检测与过程控制技术。高良率直接转化为客户巨大的经济效益和产能提升。

 

无尘车间：成就巅峰的“绝对领域”

 

然而，无论是0.1nm的原子级操控，还是99.7%的边缘良率，其实现都离不开一个基础却严苛到极致的环境保障——无尘车间。半导体制造对洁净度的要求堪称工业界之最：

 

空气洁净度：中微公司用于先进刻蚀设备制造与工艺验证的无尘车间，洁净度等级需达到ISO 1级或更高。这意味着空气中大于0.1微米的微粒数量被严格控制到每立方米个位数。任何一颗微尘落在晶圆上，在纳米尺度下都如同一座大山，足以破坏精细的图形结构，导致短路或断路，让亚埃级精度和超高良率的目标瞬间化为泡影。

温湿度精密控制：温度波动需控制在±0.1°C范围内，湿度波动在±1% RH以内。极致的稳定性是保证光刻胶性能、刻蚀反应速率一致性的基础。微小的温湿度变化都可能引起材料膨胀收缩或反应条件漂移，导致刻蚀精度偏离目标。

超低振动与噪音：精密设备对振动极其敏感。无尘车间需要配备高效隔振地基和持续的环境振动监测系统，确保设备在绝对稳定的平台上运行，避免机械振动带来的加工误差。

严格的AMC控制：除了颗粒物，空气中的分子级污染物（AMC），如酸性气体、碱性气体、可凝有机物、掺杂元素等，同样需要被高效过滤系统去除。这些污染物可能参与刻蚀反应或沉积在晶圆表面，干扰工艺结果。

 

中微公司深知，其刻蚀设备及工艺的极限性能，是尖端设备技术、先进工艺开发与无尘车间所构建的“超净环境”三者共同作用的结果。无尘车间的严格管理和持续投入，是确保设备在客户产线上也能稳定输出超高精度与良率的坚实后盾。没有这个“绝对洁净领域”的保障，原子级的操控和99.7%的良率就如同空中楼阁。

 

驱动未来：中国“芯”力量的崛起

 

中微公司亚埃级刻蚀精度和99.7%边缘良率的实现，是中国高端半导体装备自主创新的里程碑。它打破了先进刻蚀技术的国际垄断，为中国乃至全球的3nm、2nm及更先进制程芯片的研发与量产提供了强大的国产化装备支撑。这不仅增强了中国半导体产业链的安全性与韧性，更在成本效益和快速响应客户需求方面展现出显著优势。

 

       0.1nm的精度，99.7%的良率，这是中微公司在半导体装备领域刻下的“中国精度”。而托举起这一巅峰成就的基石，是其对无尘车间这一“隐形冠军”的极致追求和严苛管理。当创新的等离子体在超净环境中精准舞动，中国“芯”制造的边界正被不断拓展，为全球数字化未来注入强大动力。中微公司以无尘为基，以创新为刃，持续引领着半导体精密加工技术迈向原子级的新纪元。